Ersatzteil-Sets für Vakuumpumpsysteme LABOPORT® SC/SH/SR
499,00 CHF*
Inhalt:
1
Lieferung erfolgt gemäß Auftragsbestätigung
Produktnummer:
4686313
Hersteller:
KNF NEUBERGER GmbH
Angaben zur Verpackung:
Beschreibung
Eigenschaften
| Für: | SC820G |
|---|---|
| Hersteller Artikelnummer: | 338823 |
| UNSPSC: | 40151502 |
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Chemie-Pumpstände VARIO®
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VARIO® Chemie-Pumpstände sind die ideale Verbindung aus moderner Regelelektronik mit leistungsfähiger Mechanik und hochwertigen Materialien. Sie erreichen ein Endvakuum von bis zu 0,6 mbar. Gase und Dämpfe kommen in der Pumpe nur mit chemikalienbeständigen Fluor-Kunststoffen in Berührung. VARIO®-Membranpumpen regeln den Druck durch Anpassen der Drehzahl. Dies hat eindeutige Vorteile - auch gegenüber den besten Zweipunkt-Regelsystemen - hinsichtlich Regelgenauigkeit und Lösemittelrückgewinnung. Bis zu 30% kürzere Prozesszeiten ergeben sich durch eine hohe, gleichmäßige Verdampfungsrate am Arbeitspunkt und automatisches Anpassen des Vakuums an den jeweiligen Prozessverlauf. Interaktive Kommunikation ist durch die serielle Schnittstelle RS232C möglich. VARIO® Chemie-Pumpstände bestehen immer aus Vakuumpumpe und integriertem Vakuum-Controller mit Anzeigegerät.
Vakuumsystem für 1 RotationsverdampferAnwendung: Rotationsverdampfung, Destillation, Zentrale VakuumversorgungFörderrate bis zu 1,21 m³/h und ein Endvakuum von 2 mbar abs.Automatische, präzise Siedepunkterkennung und Siedepunktnachführung mittels integrierter RampenfunktionPPS-Pumpenkopf in Kombination mit PTFE-beschichteter Membrane sind ideal für aggressive/korrosive Gase und DämpfeDrehzahlgeregeltIntegriertes GasballastventilSchlauchanschluss: pneumatisch ID10 mm, Kühlmittel ID8 mm, Inertgas ID6 mm
Die Kombination aus drehzahlgeregelter VARIO® Chemie-Membranpumpe und dem neuen Vakuum-Controller VACUU·SELECT macht die Chemie-Pumpstände VARIO® select zur optimalen Lösung für chemische Prozesse, die präzises Vakuum erfordern wie z.B. Rotationsverdampfung, Vakuumtrocknung oder Vakuum-Konzentration.Hohe Chemiebeständigkeit und damit beste Eignung für das Fördern von aggressiven Gasen und DämpfenKurze Prozesszeiten und reibungsloser Ablauf durch optimalen Einstellung des Prozessdrucks über den VACUU·SELECT ControllerDie VARIO®-Technologie regelt das Vakuum punktgenau und effizient über die MotordrehzahlEnergieverbrauch, Wartungsaufwand und Geräuschemission sind daher verschwindend geringDer saugseitige Abscheider aus Glas mit Schutzbeschichtung hält Partikel und Tröpfchen zurück, während der sehr kompakte, druckseitige Emissionskondensator die nahezu hundertprozentige Rückgewinnung von Lösemitteln ermöglichtLänderspezifische Steckervarianten auf Anfrage erhältlich.Die Kombination aus drehzahlgeregelter VARIO® Chemie-Membranpumpe und dem neuen Vakuum-Controller VACUU·SELECT macht die Chemie-Pumpstände VARIO® select zur optimalen Lösung für chemische Prozesse, die präzises Vakuum erfordern wie z.B. Rotationsverdampfung, Vakuumtrocknung oder Vakuum-Konzentration.Hohe Chemiebeständigkeit und damit beste Eignung für das Fördern von aggressiven Gasen und DämpfenKurze Prozesszeiten und reibungsloser Ablauf durch optimalen Einstellung des Prozessdrucks über den VACUU·SELECT ControllerDie VARIO®-Technologie regelt das Vakuum punktgenau und effizient über die MotordrehzahlEnergieverbrauch, Wartungsaufwand und Geräuschemission sind daher verschwindend geringDer saugseitige Abscheider aus Glas mit Schutzbeschichtung hält Partikel und Tröpfchen zurück, während der sehr kompakte, druckseitige Emissionskondensator die nahezu hundertprozentige Rückgewinnung von Lösemitteln ermöglichtLänderspezifische Steckervarianten auf Anfrage erhältlich.
Vakuumpumpsysteme, bestehend aus chemiefester Membran-Vakuumpumpe, Basisplatte, Abscheider am Pumpeneingang und Kondensator am Pumpenausgang, für die Lösungsmittelrückgewinnung. Durch den PTFE Pumpenkopf und die PTFE-beschichtete Membran sind die Vakuumsysteme für aggressive / korrosive Gase und Dämpfe geeignet.100 % ölfreie FörderungHohe Dampf- und KondensatverträglichkeitIntegriertes GasballastventilDreifarbige Statusanzeige (In Betrieb / Stand-by / Störung)Integrierte DrehzahlregelungAnlauf gegen Endvakuum der PumpeModular ausbaubar
Vollautomatische elektronische Regelung von Kühlflächentemperatur und Lüfter.Netzkabel bitte separat bestellen.
Geeignet für Hei-VAP Core. Eigenständig regulierbarer Pumpstand bestehend aus Vakuumpumpe und Vakuumcontroller.3-stufige Membranpumpe aus chemikalienbeständigem MaterialHohe Saugleistung für eine schnelle EvakuierungPunktgenaue Vakuumregelung verhindert Siedeverzüge und vermeidet ProbenverlustAutomatische Nachführung des Vakuums an die ProzessparameterDer Pumpstand kann mit einem Kondensatkühler kombiniert werden
Vakuumpumpsysteme, bestehend aus chemiefester Membran-Vakuumpumpe, Basisplatte, Abscheider saugseitig, Hochleistungskondensator druckseitig und Vakuum-Controller, für Rotationsverdampfungen, Destillationen und Vakuumöfen. Automatische, präzise Siedepunkterkennung sowie Siedepunktnachführung mittels integrierter Rampenfunktion.Hohe RückgewinnungsratenKabelloser Controller via Bluetooth für sichere Bedienung außerhalb geschlossener AbzügeEinfache, intuitive Bedienung via Touch-Screen Display und DrehknopfregelungIntegriertes GasballastventilVier BetriebsmodiIntegrierte DrehzahlregelungATEX- gemäß II 3/-G Ex h IIB+H2 T3 Gc nur interne Atmosphäre