Exhaust Vapour Condenser Peltronic® for VARIO Chemistry Pumping Unit 3002/3003/3004

Die Kombination aus drehzahlgeregelter VARIO® Chemie-Membranpumpe und dem neuen Vakuum-Controller VACUU·SELECT macht die Chemie-Pumpstände VARIO® select zur optimalen Lösung für chemische Prozesse, die präzises Vakuum erfordern wie z.B. Rotationsverdampfung, Vakuumtrocknung oder Vakuum-Konzentration.Hohe Chemiebeständigkeit und damit beste Eignung für das Fördern von aggressiven Gasen und DämpfenKurze Prozesszeiten und reibungsloser Ablauf durch optimalen Einstellung des Prozessdrucks über den VACUU·SELECT ControllerDie VARIO®-Technologie regelt das Vakuum punktgenau und effizient über die MotordrehzahlEnergieverbrauch, Wartungsaufwand und Geräuschemission sind daher verschwindend geringDer saugseitige Abscheider aus Glas mit Schutzbeschichtung hält Partikel und Tröpfchen zurück, während der sehr kompakte, druckseitige Emissionskondensator die nahezu hundertprozentige Rückgewinnung von Lösemitteln ermöglichtLänderspezifische Steckervarianten auf Anfrage erhältlich.Die Kombination aus drehzahlgeregelter VARIO® Chemie-Membranpumpe und dem neuen Vakuum-Controller VACUU·SELECT macht die Chemie-Pumpstände VARIO® select zur optimalen Lösung für chemische Prozesse, die präzises Vakuum erfordern wie z.B. Rotationsverdampfung, Vakuumtrocknung oder Vakuum-Konzentration.Hohe Chemiebeständigkeit und damit beste Eignung für das Fördern von aggressiven Gasen und DämpfenKurze Prozesszeiten und reibungsloser Ablauf durch optimalen Einstellung des Prozessdrucks über den VACUU·SELECT ControllerDie VARIO®-Technologie regelt das Vakuum punktgenau und effizient über die MotordrehzahlEnergieverbrauch, Wartungsaufwand und Geräuschemission sind daher verschwindend geringDer saugseitige Abscheider aus Glas mit Schutzbeschichtung hält Partikel und Tröpfchen zurück, während der sehr kompakte, druckseitige Emissionskondensator die nahezu hundertprozentige Rückgewinnung von Lösemitteln ermöglichtLänderspezifische Steckervarianten auf Anfrage erhältlich.

Fully automatic electronic control of cooling surface temperature and fan.Please order mains cable separately.

Vacuum system for 1 rotary evaporator.Application: Rotary evaporation, distillation, central vacuum supplyFlow rate up to 1.21 m³/h / Ultimate vacuum 2 mbar abs.Automatic, precise boiling point detection and boiling point tracking using an integrated ramp functionPPS pump heads in combination with PTFE-coated diaphragms are ideal for aggressive/corrosive gases and vapoursSpeed controlledIntegrated gas ballast valveConnectors for tube: pneumatic ID10 mm, coolants ID8 mm, inert gas ID6 mm

Vacuum pump systems consisting of chemically resistant diaphragm vacuum pump, base plate, inlet separator and outlet condensor for solvent recovery. The PTFE pump head and the PTFE-coated diaphragm make the vacuum systems suitable for aggressive / corrosive gases and vapours.100 % oil-free transferHigh level of vapor and condensate compatibilityIntegrated gas ballast valve3-color status display (in operation / stand-by / error)Integrated speed controlStart against ultimate vacuum of the pumpModular expandable

Vacuum pump systems consisting of chemically resistant diaphragm vacuum pump, base plate, separator on suction side, high performance condenser on pressure side and vacuum controller for rotary evaporations, distillations and vacuum ovens. Automatic, accurate recognition and monitoring of the boiling point using the integrated ramp function.High recovery ratesWireless controller via Bluetooth for safe operation from outside closed fume hoodsEasy, intuitive control via touchscreen display and rotation knobIntegrated gas ballast valveFour operating modesIntegrated speed controlATEX compliant to (Ex) II 3/-G Ex h IIB+H2 T3 Gc internal atmosphere only

Suitable for Hei-VAP Core. Fully controllable stand-alone pumping unit including vacuum controller3-stage diaphragm pump is made from chemical-resistant materialHigh suction capacity for fast evacuationPrecise vacuum control avoids bumping and eliminates foaming of your evaporation solutionAutomatic vacuum supply to the process parametersThe pump unit can be combined with a condenser